設(shè)備簡(jiǎn)介：

　　國(guó)泰真空全自主研發(fā)設(shè)計(jì)制造的GTRF-17和GTRF-23射頻離子源主要用于精密光學(xué)鍍膜，它具有能量高、能量分布均勻性好、工作時(shí)間長(zhǎng)、污染小等優(yōu)點(diǎn)，在鍍膜領(lǐng)域的主要應(yīng)用是離子束輔助沉積和離子束清洗等。

　　設(shè)備主要規(guī)格參數(shù)：

型號(hào)	GTRF-17	GTRF-23(26)	GTRF-30
柵網(wǎng)直徑（mm）	170	230(260)	300
BEAM電流（mA）	1500	1500	3000
BEAM電壓（V）	1500	1500	2000
ACC電壓（V）	1000	1000	1000
中和比E/B（%）	100-200	100-200	100-200
連續(xù)使用時(shí)間（h）	≥500	≥500	≥500
推薦使用機(jī)型	1150-1350	1550-1800	2050-2700

　　操作主界面：

　　工藝應(yīng)用：

　　IR-CUT曲線實(shí)測(cè)：

　　環(huán)境測(cè)試：

　　水煮15分鐘后，曲線無(wú)漂移

　　水煮后經(jīng)3M膠帶白格測(cè)試未發(fā)現(xiàn)脫膜

　　運(yùn)行狀態(tài)：

　　射頻離子源通過(guò)改進(jìn)能量和電流的均勻性，提高了膜層的堆積密度和材料的氧化度，從而抑制膜層的溫度漂移及波長(zhǎng)漂移!同時(shí)解決了膜層牢固度和膜料折射率等問(wèn)題。