GTRF-17/23/26/30射頻離子源

　　設備簡介：

　　國泰真空全自主研發(fā)設計制造的GTRF-17和GTRF-23射頻離子源主要用于精密光學鍍膜，它具有能量高、能量分布均勻性好、工作時間長、污染小等優(yōu)點，在鍍膜領域的主要應用是離子束輔助沉積和離子束清洗等。

　　設備主要規(guī)格參數(shù)：

型號	GTRF-17	GTRF-23(26)	GTRF-30
柵網(wǎng)直徑（mm）	170	230(260)	300
BEAM電流（mA）	1500	1500	3000
BEAM電壓（V）	1500	1500	2000
ACC電壓（V）	1000	1000	1000
中和比E/B（%）	100-200	100-200	100-200
連續(xù)使用時間（h）	≥500	≥500	≥500
推薦使用機型	1150-1350	1550-1800	2050-2700

　　操作主界面：

　　工藝應用：

　　IR-CUT曲線實測：

　　環(huán)境測試：

　　水煮15分鐘后，曲線無漂移

　　水煮后經(jīng)3M膠帶白格測試未發(fā)現(xiàn)脫膜

　　運行狀態(tài)：

　　射頻離子源通過改進能量和電流的均勻性，提高了膜層的堆積密度和材料的氧化度，從而抑制膜層的溫度漂移及波長漂移!同時解決了膜層牢固度和膜料折射率等問題。